Vテクが大幅反発、業界最高速のシリコンウエハー結晶欠陥検査装置を出荷開始
結晶欠陥は、ウエハーに加工する前のシリコンのインゴット内部を横断するように発生する欠陥で、これまでの標準的な光学式の検査では検出が難しく、また基板表面を後処理した後に初めて検出可能となることが多いことから、欠陥基板が半導体製造工程に流出した場合、デバイスの製造歩留まりに大きな影響を与えていた。今回ナノシステムソリューションズでは、偏光イメージング技術を用いた独自の結晶検査光学系の開発に成功し、インラインの生産装置として業界最高速のスループットである毎時133枚の検査を実現したとしている。
出所:MINKABU PRESS
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